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专利名称 | 应力—水流—化学耦合的岩石单轴压缩细观力学试验装置 |
申请号 | CN200410061081.2 | 申请日期 | 2004-11-10 |
法律状态 | 权利终止 | 申报国家 | 中国 |
公开/公告日 | 2005-04-06 | 公开/公告号 | CN1603784 |
优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
主分类号 | G01N3/56 | IPC分类号 | G;0;1;N;3;/;5;6;;;G;0;1;N;3;/;1;2查看分类表>
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申请人 | 中国科学院武汉岩土力学研究所 | 申请人地址 | 湖北省武汉市武昌小洪山
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权利人 | 中国科学院武汉岩土力学研究所 | 当前权利人 | 中国科学院武汉岩土力学研究所 |
发明人 | 冯夏庭;丁梧秀;谭卫东;胡元育 |
代理机构 | 武汉宇晨专利事务所 | 代理人 | 王敏锋 |
摘要
本发明公开了一种应力-水流-化学耦合的岩石单轴压缩细观力学试验装置。该装置包含盒体(1)、一对加载轴(2)、两个水嘴(3)、水泵(4)、控制阀(5)、两根水管(6)、容器(7);其特征在于,在盒体(1)透明材料(8)的另一侧上下方各安装一个水嘴(3),上方的水嘴(3)与水管(6)连接为出水口,下方水嘴(3)经水管(6)通过控制阀(5)与水泵(4)连接为进水口。主要优点是实现了应力-水流-化学腐蚀三场耦合过程的岩石试件单轴压缩细观力学实验,便于试验过程和裂纹扩展全过程的细观及宏观观察。
1、一种应力-水流-化学耦合的岩石单轴压缩细观力学试验装 置,其特征在于,该装置包含盒体(1)、一对加载轴(2)、两个水嘴 (3)、水泵(4)、控制阀(5)、两根水管(6)、容器(7);盒体(1) 为上方敞开的中空长方体,其一侧为硬质透明材料(8),盒体(1) 两端的中间开有同轴圆孔,一对加载轴(2)均为圆柱体,大小与圆 孔相匹配,分别安装在两个圆孔中,加载轴(2)与圆孔间用O型密 封圈密封,在盒体(1)透明材料(8)的另一侧上下方各安装一个水 嘴(3),上方的水嘴(3)靠近盒体(1)顶端,并与一水管(6)连 接,下方水嘴(3)经另一水管(6)通过控制阀(5)与水泵(4)连 接,上方水嘴(3)的水管(6)和水泵(4)均放入容器(7)中。
技术领域:\n本发明涉及岩石细观力学试验,更具体涉及岩石单轴压缩应力- 水流-化学耦合作用下变形破裂全过程的细观力学试验。适用于考虑 单向压应力、水流、化学腐蚀等影响的岩石细观力学加载试验。\n背景技术:\n裂隙岩石的化学-水流-应力耦合过程研究是国际岩石力学领域 最前沿的课题之一,是核废料地下处置、地下能源储存、地下二氧化 碳储存、地热开发、石油开采、坝基、边坡、硐室等众多与水相关的 岩石工程的最基础性研究课题之一,具有十分重要的科学意义。主要 体现在,一方面,在岩石工程的安全性的诸多影响因素中,水是最活 跃的一个因素。岩土体受化学溶液侵蚀作用后,由于水-岩作用削弱 了矿物颗粒间联结、或腐蚀矿物颗粒晶格而使岩土体物理力学性质变 异,同时水溶液通过溶蚀岩土体而将溶蚀物质带走,使岩土体性状变 差,甚至出现工程事故,对岩土工程的长期稳定性产生威胁。如世界 文化遗产之一-洛阳龙门石窟,由于石窟区灰岩渗水溶蚀作用,致使 大多数硐窟终年渗水不断,加之硐窟顶部植被发育,化学溶液引起的 溶蚀孔隙仍在不断增大,目前尚无良好的治理方案;而堪称世界第九 大奇迹的浙江龙游石窟,该建筑群所面临的主要变形破坏的工程问题 之一,也是地下水渗透溶蚀引起的砂岩塌顶掉块问题。另一方面,利 用化学的作用可以提高钻井效率。有关研究表明:湿润条件下的破坏 韧性值比干燥条件下的要低,裂纹扩展速度加快。ξ电位与裂纹增长、 钻进效率具有一定的关系。ξ电位等于0时,岩石材料脆性增强,对 环境的影响更加敏感,抗压强度最低,亚临界裂纹扩展速度将提高1 个数量级以上。因此,如果将一些零ξ电位的化学溶液加入到钻井 液与破裂液中,就可以提高岩石的可钻性和可破裂性。近现代以来出 现的低渗透油气田的酸化开采、岩土体的化学灌浆加固与防渗等,表 明化学的作用在岩土工程中的应用已愈来愈广泛。\n上述研究尚未涉及化学-水流-应力耦合下裂隙相互作用的机制 及其分析方法研究。实际上,节理岩体存在多裂隙的,许多情况下化 学溶液对岩体的腐蚀破坏是从岩体介质初始结构面即初始损伤开始 的,Palmer曾指出大型溶洞体系大多是沿岩石中先存的层面或结构面 发育的,在所研究的数千洞穴中,57%沿层面发育,而42%沿先存裂 隙网络发育,仅有1%沿岩石颗粒间的孔隙发育。而且,许多裂隙(节 理)岩体的安全性往往受到化学、水流、应力耦合作用的影响。因此, 研究化学、水流、应力耦合作用下岩石裂隙萌生、扩展、贯通及相互 作用的内部损伤演化过程、规律,化学环境的腐蚀破裂机理、新裂隙 的形成与新形成裂隙的化学物质的吸附作用以及发生速度等具有更 为重要而广泛的科学意义;化学-水流-应力耦合作用下多裂隙岩石破 坏过程的本构关系还未建立起来,从而未能实现对受化学、水流、应 力耦合作用的岩石破裂过程进行有效的模拟和行为预测。其根本原因 是缺乏与研究相配套的实验方法及设备。\nCT实时扫描试验与显微镜实时观测试验等细观力学试验是揭示 岩石破裂过程中其内部损伤演化规律的一种有效的手段,但CT实时 扫描试验与显微镜实时观测试验不能实现水化学腐蚀、水流与应力耦 合的岩石破裂全过程研究。\n既然水-岩作用的实质是削弱矿物颗粒间联结或腐蚀矿物颗粒晶 格而使岩土体物理力学性质变异,同时化学溶液通过溶蚀岩土体而将 溶蚀物质带走,使岩土体性状变差。因此,需要采用细观力学试验方 法,揭示这种应力-水流-化学腐蚀耦合作用下岩石破裂过程中其内部 损伤演化规律。\n发明内容\n本发明的目的在于,提供一种应力-水流-化学耦合的岩石单轴 压缩细观力学试验装置。该装置主要是在盒体一侧安装透明材料,以 及两个水嘴,一个水嘴与水泵连接,用于向盒体提供液体,另一个水 嘴与水管连接,用于将盒体中高于该水嘴的液体排出。主要优点是实 现了应力-水流-化学腐蚀三场耦合过程的岩石单轴压缩细观力学 实验,并便于试验过程中试件裂纹扩展全过程的显微镜放大与CCD 观察。\n为了达到上述目的,本发明采用如下技术方案:\n一种应力-水流-化学耦合的岩石单轴压缩细观力学试验装置, 该装置包含盒体、一对加载轴、两个水嘴、水泵、控制阀、两根水管 和容器。盒体为上方敞开的中空长方体,其一侧为硬质透明材料,盒 体两端的中间开有同轴圆孔,一对加载轴均为圆柱体,大小与圆孔相 匹配,分别安装在两个圆孔中,加载轴与圆孔间用O型密封圈密封, 在盒体透明材料的另一侧上下方各安装一个水嘴,上方的水嘴尽量靠 近盒体顶端,并与水管连接,下方水嘴经水管通过控制阀与水泵连接, 上方水嘴的水管和水泵均放入容器中。\n本发明在岩石细观力学试验中的应用:\n1、盒体上部是敞开的,从这里将岩石试件放于两个加载轴中间, 并夹紧。\n2、在容器中倒入试验需要的化学溶液,把水泵放入容器中,使 得水泵能完全浸没在化学溶液中。\n3、位于盒体上方水嘴的水管为出水管,其出水口置于容器的上 方,并高于化学溶液的表面,以便于溶液顺利流出。\n4、水泵将容器中的化学溶液抽到盒体中,当化学溶液高过盒体 上方水嘴时,会通过出水管将高过上方水嘴的化学溶液流回到容器 中,此时,试件浸没在化学溶液中。\n5、控制阀是用于控制化学溶液在盒体中的流速,根据试验要求, 通过调节控制阀来控制盒体中化学溶液流速的大小。\n6、将本装置放在加载试验台上,使一对加载轴均匀受力,一对 加载轴则将所受的力传递到试件上,进行应力-水流-化学耦合的力 学试验。由于盒体有一侧采用了透明材料,便于对试件破坏全过程的 CCD观测或者录像记录。\n7、用不同化学溶液、在不同流速、以及不同的荷载共同作用下, 其对岩石试件的破坏过程、方式亦会有相应的变化。本装置的目的就 是为观察、记录该变化提供试验手段,为应力-水流-化学腐蚀三场 耦合对岩石破坏作用的理论分析提供依据。\n本发明具有的优点和积极效果在于:\n1、本装置可进行不同化学溶液、不同流速、以及不同荷载共同 作用对岩石破坏的影响,能满足应力-水流-化学腐蚀三场耦合对岩 石细观力学实验的需要;\n2、由于本装置有一侧采用了透明材料,便于对试件破坏全过程 的CCD观测或者录像记录;\n3、本装置简单、易行,且成本低廉,具有抗化学腐蚀能力;\n4、为核废料处理、地热开发、石油钻井、地震机制、有毒有害 物质的储存,岩土工程长期稳定性评价等需考虑不同化学溶液、不同 流速、以及不同荷载共同作用对岩石破坏影响的岩土工程,提供了更 全面、可靠的试验手段。\n附图说明:\n图1为本发明的结构示意图。\n其中:1为盒体、2为加载轴、3为水嘴、4为水泵、5为控制阀、 6为水管、7为容器、8为透明材料。\n具体实施方式:\n以下结合附图对本发明作进一步的说明:\n由图1可知,本发明的一种应力-水流-化学耦合的岩石单轴压 缩细观力学试验装置包含盒体1、一对加载轴2、两个水嘴3、水泵4、 控制阀5、两根水管6、容器7;盒体1为上方敞开的中空长方体, 其一侧为硬质透明材料8如有机玻璃、其它部分采用不锈钢材料,盒 体1两端的中间开有同轴圆孔,一对加载轴2均为圆柱体,大小与圆 孔相匹配,分别安装在两个圆孔中,加载轴2与圆孔间用O型密封 圈密封,在盒体1透明材料8的另一侧上下方各安装一个水嘴3,上 方的水嘴3尽量靠近盒体1顶端,并与水管6连接,下方水嘴3经水 管6通过控制阀5与水泵4连接,上方水嘴3的水管6和水泵4均放 入容器7中。
法律信息
- 2013-01-16
未缴年费专利权终止
IPC(主分类): G01N 3/56
专利号: ZL 200410061081.2
申请日: 2004.11.10
授权公告日: 2007.02.07
- 2007-02-07
- 2005-06-08
- 2005-04-06
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 |
1
| | 暂无 |
2000-12-05
| | |
2
| | 暂无 |
1989-06-30
| | |
3
| | 暂无 |
2001-12-13
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被引用专利(该专利被哪些专利引用)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有被任何外部专利所引用! |