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一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010022997.2
  • IPC分类号:B24B57/00;C02F9/02;C02F1/44;C02F1/42
  • 申请日期:
    2010-01-19
  • 申请人:
    中国科学院上海微系统与信息技术研究所
著录项信息
专利名称一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法
申请号CN201010022997.2申请日期2010-01-19
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2010-06-30公开/公告号CN101758457A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B24B57/00IPC分类号B;2;4;B;5;7;/;0;0;;;C;0;2;F;9;/;0;2;;;C;0;2;F;1;/;4;4;;;C;0;2;F;1;/;4;2查看分类表>
申请人中国科学院上海微系统与信息技术研究所申请人地址
浙江省海宁市斜桥镇云星路138号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江新创纳电子科技有限公司当前权利人浙江新创纳电子科技有限公司
发明人汪海波;刘卫丽;宋志棠
代理机构上海光华专利事务所代理人许亦琳;余明伟
摘要
本发明公开了一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法,包括下列步骤:将已使用过的抛光液经过滤膜过滤后收集滤液;将滤液过阳离子交换树脂后,收集流出液;将获得的流出液再过阴离子交换树脂,收集流出液;将获得的流出液作为原料用于配制新的化学机械抛光液,或者将获得的流出液浓缩后作为原料用于配制新的化学机械抛光液。本发明的方法磨料回收率高,环保且节省资源。

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