抛光液供给臂及抛光液供给装置

发明专利无效专利

申请号：
CN201810002341.0
IPC分类号：B24B57/02
申请日期：
2018-01-02
申请人：
北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）

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专利名称	抛光液供给臂及抛光液供给装置
申请号	CN201810002341.0	申请日期	2018-01-02
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-06-19	公开/公告号	CN108177089A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B57/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B57/00 磨削抛光或研磨剂的进料，加料，分选或回收设备（用于磨料喷射入B24C 1/00，B24C 7/00）〔4〕 B24B57/02 流体的，喷射的，雾化的或液化的磨削剂，抛光剂，或研磨剂的送进〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;5;7;/;0;2查看分类表>
申请人	北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）	申请人地址	北京市经济技术开发区泰河三街1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）	当前权利人	北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
发明人	李伟;姜家宏;王铮
代理机构	北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	曾章沐

摘要

本发明提供了一种抛光液供给臂及抛光液供给装置，属于抛光设备领域，该抛光液供给臂包括臂体、喷嘴固定件、喷嘴和抛光液输送管道；臂体具有沿其长度方向设置的第一安装槽和第二安装槽，喷嘴固定件设置在第一安装槽内，抛光液输送管道设置在第二安装槽内，喷嘴固定件内部沿其长度设置有供水管道，多个喷嘴分别与喷嘴固定件内部供水管道连通，并且多个喷嘴分布在喷嘴固定件的长度方向，喷嘴能够相对于喷嘴固定件转动以调整喷射角度。从而对抛光垫进行充分清洗，消除清洗盲区，保障晶圆的抛光均匀性。该抛光液供给装置中利用驱动机构通过传动轴驱动抛光液供给臂运动，以实现对抛光液供给臂旋转位置的自动控制。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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