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真空设备和用于真空设备的过滤器的制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610091673.8
  • IPC分类号:F04F5/20
  • 申请日期:
    2006-06-09
  • 申请人:
    SMC株式会社
著录项信息
专利名称真空设备和用于真空设备的过滤器的制造方法
申请号CN200610091673.8申请日期2006-06-09
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2006-12-13公开/公告号CN1877138
优先权暂无优先权号暂无
主分类号F04F5/20IPC分类号F;0;4;F;5;/;2;0查看分类表>
申请人SMC株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人SMC株式会社当前权利人SMC株式会社
发明人永井茂和;齐藤昭男;包晓雁
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所代理人郭小军
摘要
主体部分(12)具有用于除去包含于压力流体内的灰尘或类似物的过滤器(50),和用于减小当压力流体从喷射器(14)排出时产生的排放声音的消音器(74),其中所述喷射器(14)用作真空发生装置。过滤器(50)形成为具有基本上伸长的圆形横截面,该横截面具有一对圆弧部分(58a,58b)。此外,过滤器(50)形成为由内层(50a)和外层(50b)组成的两层结构,这是通过缠绕分别具有不同材料性质的纤维材料获得的。

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