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半导体测试图案及其测试方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110234796.7
  • IPC分类号:H01L21/66
  • 申请日期:
    2021-03-03
  • 申请人:
    联芯集成电路制造(厦门)有限公司
著录项信息
专利名称半导体测试图案及其测试方法
申请号CN202110234796.7申请日期2021-03-03
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2021-11-05公开/公告号CN113611621A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/66IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人联芯集成电路制造(厦门)有限公司申请人地址
福建省厦门市翔安区万家春路899号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人联芯集成电路制造(厦门)有限公司当前权利人联芯集成电路制造(厦门)有限公司
发明人袁林山;杨光;欧阳锦坚;吕嘉伟;黄清俊;谈文毅
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陈小雯
摘要
本发明公开一种半导体测试图案及其测试方法,其中该半导体测试图案包含一高密度元件区,以及多个电阻对,环绕于该高密度元件区的周围,其中每一个电阻对包含有两个相互对称的电阻图案。

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