X射线显微成像系统

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201220286837.3
IPC分类号：G01N23/04
申请日期：
2012-06-18
申请人：
东营市三英精密工程研究中心

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著录项信息

专利名称	X射线显微成像系统
申请号	CN201220286837.3	申请日期	2012-06-18
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N23/04 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N23/00 利用波或粒子辐射来测试或分析材料，例如X射线、（或中子，未包括在G01N3/00至G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00）〔1，2006.01〕 G01N23/02 通过使辐射透过材料 G01N23/04 并形成材料的图片〔1，2006.01，2018.01〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;3;/;0;4查看分类表>
申请人	东营市三英精密工程研究中心	申请人地址	山东省东营市府前大街59号B座240室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东营市三英精密工程研究中心	当前权利人	东营市三英精密工程研究中心
发明人	须颖;董友
代理机构	北京清亦华知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	贾玉姣

摘要

本实用新型公开了一种X射线显微成像系统，包括:可沿纵向移动的射线源；样品台；探测器，所述探测器和所述射线源在纵向上位于所述样品台的两侧，所述探测器包括横向相邻的大视场探测器和高分辨率探测器，所述探测器被构造成可分别沿横向和纵向移动以使所述射线源发射出的X射线穿透所述待测样品后投射至所述大视场探测器和高分辨率探测器中的其中一个上；控制器，所述控制器用于控制所述射线源和所述探测器的移动；和计算机，所述计算机分别与所述控制器和所述探测器相连以分别向所述控制器发出控制指令及对待测样品进行图像数据采集。本成像系统，可根据实际需要实现分辨率与视场在成像极限范围内的连续可调，解决两个成像难以兼顾的难题。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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