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半导体存储器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200980103454.9
  • IPC分类号:H01L21/8244;H01L27/11
  • 申请日期:
    2009-01-29
  • 申请人:
    日本优尼山帝斯电子株式会社
著录项信息
专利名称半导体存储器件
申请号CN200980103454.9申请日期2009-01-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2010-12-29公开/公告号CN101933136A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8244
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;4;;;H;0;1;L;2;7;/;1;1查看分类表>
申请人日本优尼山帝斯电子株式会社申请人地址
新加坡柏龄大厦 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人新加坡优尼山帝斯电子私人有限公司当前权利人新加坡优尼山帝斯电子私人有限公司
发明人舛冈富士雄;新井绅太郎
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人郑小军;冯志云
摘要
在以纵型晶体管SGT所构成的CMOS型6T-SRAM中,实现小的SRAM单元面积与稳定的动作裕度。在使用6个MOS晶体管所构成的静态型存储器单元中,构成所述存储器单元的MOS晶体管是形成于埋入氧化膜上形成的平面状硅层上,具有漏极、栅极、以及源极配置于垂直方向,且栅极包围柱状半导体层的构造,所述平面状硅层是由具有第一导电型的第一主动区域与具有第二导电型的第二主动区域所构成,通过此等主动区域通过形成于平面状硅层表面的硅化物层相互连接,实现更小面积的SRAM单元。

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