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一种复合相位掩模板及成像系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200910097178.1
  • IPC分类号:G02B27/46;H04N5/225
  • 申请日期:
    2009-03-26
  • 申请人:
    浙江大学
著录项信息
专利名称一种复合相位掩模板及成像系统
申请号CN200910097178.1申请日期2009-03-26
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-08-19公开/公告号CN101510011
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B27/46IPC分类号G;0;2;B;2;7;/;4;6;;;H;0;4;N;5;/;2;2;5查看分类表>
申请人浙江大学申请人地址
浙江省杭州市西湖区浙大路38号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人浙江大学当前权利人浙江大学
发明人李奇;赵惠;冯华君;徐之海
代理机构杭州天勤知识产权代理有限公司代理人胡红娟
摘要
本发明公开了一种复合相位掩模板,其特征在于:所述的复合相位掩模板的相位分布函数包含指数型和一次方型两种函数,相位分布函数θ(x,y)的函数式如下:θ(x,y)=α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)+κ·(x+y),式中,α·x·exp(β·x2)+α·y·exp(β·y2)为指数型函数,κ·(x+y)为一次方型函数;其中,α、β为指数函数调制因子,κ为相位调制因子,x,y为孔径平面归一化的空间坐标。本发明还公开了一种采用指数型和一次方型两种函数复合的复合相位掩模板的成像系统,该成像系统可以明显地改善采用指数型相位分布函数掩模板成像系统所固有的相位传递函数偏移现象。

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