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DOE光路成像系统以及光刻机

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201911136255.X
  • IPC分类号:G02B27/42;G03F7/20
  • 申请日期:
    2019-11-19
  • 申请人:
    上海华力微电子有限公司
著录项信息
专利名称DOE光路成像系统以及光刻机
申请号CN201911136255.X申请日期2019-11-19
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2020-01-21公开/公告号CN110716320A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B27/42IPC分类号G;0;2;B;2;7;/;4;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海华力微电子有限公司申请人地址
上海市浦东新区良腾路6号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华力微电子有限公司当前权利人上海华力微电子有限公司
发明人李铭;童立峰;赵彬
代理机构上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人曹廷廷
摘要
本发明提供一种DOE光路成像系统,包括准直模块、光学校正模块、DOE模块和会聚模块,所述准直模块用于对入射光进行准直处理并输出准直后光束,所述光学校正模块接收所述准直后光束并对所述准直后光束进行校正,输出校正后光束,所述DOE模块接收所述校正后光束并利用至少一个衍射光学元件将所述校正后光束转变为平行光并输出,所述会聚模块将所述DOE模块输出的光进行会聚并输出出射光束。由于准直模块输出的准直后光束存在一定的发散角,准直后光束经过光学校正模块校正,再经过DOE模块折转以及会聚模块会聚输出,使得DOE光路成像系统输出的出射光束的发散角减小,角半径减小,从而可以改善散焦问题。本发明还提供一种光刻机,包括上述DOE光路成像系统。

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