一种光学元件非线性效应I*L值的测试方法及装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202010563416.X
IPC分类号：G01M11/02
申请日期：
2020-06-19
申请人：
中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所

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著录项信息

专利名称	一种光学元件非线性效应I*L值的测试方法及装置
申请号	CN202010563416.X	申请日期	2020-06-19
法律状态	实质审查	申报国家	暂无
公开/公告日	2020-08-25	公开/公告号	CN111579221A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01M11/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01M 机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试 G01M11/00 光学设备的测试；其他类目未包括的用光学方法测试结构部件 G01M11/02 光学性质的测试	IPC分类号	G;0;1;M;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人	中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所	申请人地址	上海市嘉定区陈家山路1129号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所	当前权利人	中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所
发明人	单翀;赵晓晖;高妍琦;崔勇;季来林;李小莉;饶大幸;刘栋;夏兰;郑权;赵元安;刘晓凤;朱翔宇
代理机构	上海智力专利商标事务所（普通合伙）	代理人	杜冰云;周涛

摘要

本发明公开了一种光学元件非线性效应I*L值的测试方法及装置，所述方法通过利用焦距小于光学元件厚度的透镜并通过调整光学元件的位置的方法将激光束聚焦在光学元件体内，同时将激光辐照在待测光学元件入射面的激光能量密度调整至小于待测光学元件入射面的激光损伤阈值，模拟出了非聚焦条件下的扰动诱导小尺度自聚焦效应，解决了传统测试方法中由于光学元件入射面损伤先于体内自聚焦成丝损伤发生，因而由光学元件入射面损伤带来的散射、缺陷吸收等激光损耗的问题，不仅提高了测试精度，也为光学元件在高功率激光装置中的安全使用以及提高材料的抗激光损伤能力提供更多的帮助。

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