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等离子体处理装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110235480.X
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2021-03-03
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称等离子体处理装置
申请号CN202110235480.X申请日期2021-03-03
法律状态公开申报国家暂无
公开/公告日2021-09-17公开/公告号CN113410114A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人舆水地盐
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人徐殿军
摘要
本发明的等离子体处理装置具有基板支承器。基板支承器具有支承基板的第1区域及支承边缘环的第2区域。第1电极设置于第1区域内,第2电极设置于第2区域内。第1偏置电源经由第1电路与第1电极连接。第2偏置电源经由第2电路与第2电极连接。第2电路在第1偏置电源产生的第1电偏置及第2偏置电源产生的第2电偏置的相同的偏置频率下具有比第1电路的阻抗高的阻抗。

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