一种X射线聚焦光学系统

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201420845744.9
IPC分类号：G01T1/29
申请日期：
2014-12-26
申请人：
中国科学院西安光学精密机械研究所

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著录项信息

专利名称	一种X射线聚焦光学系统
申请号	CN201420845744.9	申请日期	2014-12-26
法律状态	放弃专利权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01T1/29 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01T 核辐射或X射线辐射的测量（材料的辐射分析，质谱测定法入G01N 23/00用以测定辐射或粒子的存在、强度、密度或能量的管入H01J 47/00） G01T1/00 X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量（G01T 3/00，G01T 5/00优先）〔2〕 G01T1/29 对辐射束流的测量，例如，测量射束位置或截面；辐射的空间分布的测量〔2〕	IPC分类号	G;0;1;T;1;/;2;9查看分类表>
申请人	中国科学院西安光学精密机械研究所	申请人地址	陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院西安光学精密机械研究所	当前权利人	中国科学院西安光学精密机械研究所
发明人	刘永安;盛立志;刘舵;李林森;代锦飞;刘哲;赵宝升
代理机构	西安智邦专利商标代理有限公司	代理人	杨亚婷

摘要

本实用新型涉及一种X射线聚焦光学系统，包括镜筒，安装在镜筒内的反射镜片组、支撑架，反射镜片组为多个单层反射镜片嵌套形成的多层套筒结构，各单层反射镜片关于光轴旋转对称，单层反射镜片的内表面为反射面，内表面的形状为圆锥曲面，单层反射镜片之间的径向间距渐变且共焦点，能够以掠入射的方式对平行或近似平行入射的X射线通过单次反射进行聚焦。本实用新型可以有效提高X射线光子收集效率，为X射线脉冲星导航和X射线通信等非成像应用情况下微弱X射线光子的探测提供了一种简便、高效的聚焦光学系统。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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