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CVD涂层切削工具

发明专利有效专利

申请号：
CN201510964707.9
IPC分类号：C23C16/40;C23C30/00;C23C16/36;C23C16/34;C23C16/30;C23C16/02
申请日期：
2015-12-21
申请人：
山特维克知识产权股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	CVD涂层切削工具
申请号	CN201510964707.9	申请日期	2015-12-21
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-06-29	公开/公告号	CN105714268A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/40 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/30 沉积化合物、混合物或固溶体，例如硼化物、碳化物、氮化物〔4〕 C23C16/40 氧化物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;4;0;;;C;2;3;C;3;0;/;0;0;;;C;2;3;C;1;6;/;3;6;;;C;2;3;C;1;6;/;3;4;;;C;2;3;C;1;6;/;3;0;;;C;2;3;C;1;6;/;0;2查看分类表>
申请人	山特维克知识产权股份有限公司	申请人地址	瑞典桑德维肯变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	山特维克知识产权股份有限公司	当前权利人	山特维克知识产权股份有限公司
发明人	埃里克·林达尔;扬·恩奎斯特
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	王潜;郭国清

摘要

本发明涉及一种CVD涂层切削工具。特别地，本发明涉及一种用于金属的切屑形成机械加工的涂层切削工具，所述涂层切削工具包含具有涂覆有化学气相沉积(CVD)涂层的表面的基底。所述涂层切削工具包含涂覆有涂层的基底，所述涂层包含α‑Al2O3层，其中所述α‑Al2O3层具有织构系数TC(0012)≥7.2，以及其中I(0012)/I(0114)的比率≥1。

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