一种喷淋装置及薄膜沉积反应装置

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202023096562.0
IPC分类号：C23C16/455;C23C16/40;H01L31/18
申请日期：
2020-12-21
申请人：
苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司

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著录项信息

专利名称	一种喷淋装置及薄膜沉积反应装置
申请号	CN202023096562.0	申请日期	2020-12-21
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/455 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/44 以镀覆方法为特征的（C23C 16/04优先）〔4〕 C23C16/455 向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法〔7〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;4;5;5;;;C;2;3;C;1;6;/;4;0;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8查看分类表>
申请人	苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司	申请人地址	江苏省苏州市苏州高新区鹿山路199号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	苏州阿特斯阳光电力科技有限公司,阿特斯阳光电力集团有限公司	当前权利人	苏州阿特斯阳光电力科技有限公司,阿特斯阳光电力集团有限公司
发明人	金佐良;孙贤;尹恒民
代理机构	北京品源专利代理有限公司	代理人	胡彬

摘要

本实用新型公开了一种喷淋装置及薄膜沉积反应装置，涉及太阳能电池镀膜技术领域。该喷淋装置包括第一喷淋组件及第二喷淋组件，所述第一喷淋组件上设置有多个沿第一方向间隔排列的第一喷淋孔；所述第二喷淋组件上设置有多个沿第一方向间隔排列的第二喷淋孔；所述第一喷淋组件与所述第二喷淋组件均设置有多个且交替排列，相邻的所述第一喷淋组件和所述第二喷淋组件中，多个所述第一喷淋孔与多个所述第二喷淋孔沿第一方向错开设置。该喷淋装置及薄膜沉积反应装置能够使水和三甲基铝充分混分，反应较为彻底，减少残留的原始反应物。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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