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等离子体处理装置及处理系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110382582.0
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2011-11-24
  • 申请人:
    东京毅力科创株式会社
著录项信息
专利名称等离子体处理装置及处理系统
申请号CN201110382582.0申请日期2011-11-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-05-30公开/公告号CN102479658A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人东京毅力科创株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京毅力科创株式会社当前权利人东京毅力科创株式会社
发明人田中诚治
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)代理人刘新宇;张会华
摘要
本发明提供一种等离子体处理装置及处理系统。多层分批式的等离子体处理装置即使被处理体是大型的也能够对多个该被处理体同时实施均匀的等离子体处理。其具有:接地线,其连接于两个以上的下部电极的每一个的与用于载置被处理体的载置面相反一侧的面的中央部、或者用于和下部电极构成电极对的上部电极的每一个的与相对面相反的一侧的面的中央部中的任意一个中央部,该相对面与载置面相对;高频电供给线,其连接于未连接有接地线的另一个中央部;屏蔽构件,其在处理室的内部收容接地线及高频电供给线;阻抗调整机构,其设置在各个接地线上,用于对各个电极对单独进行阻抗调整。

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