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利用成角度光刻制造光导元件的系统和方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980086402.9
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027
  • 申请日期:
    2019-10-24
  • 申请人:
    伟摩有限责任公司
著录项信息
专利名称利用成角度光刻制造光导元件的系统和方法
申请号CN201980086402.9申请日期2019-10-24
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-08-17公开/公告号CN113272735A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人伟摩有限责任公司申请人地址
美国加利福尼亚州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人伟摩有限责任公司当前权利人伟摩有限责任公司
发明人J.邓菲;D.哈奇森
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人金玉洁
摘要
这里描述的系统和方法涉及光学元件和光学系统的制造。示例系统可以包括光学部件,该光学部件配置为引导来自光源的光从而以期望的角度照射光致抗蚀剂材料并将光致抗蚀剂材料中的成角度结构的至少一部分曝光,其中光致抗蚀剂材料覆盖基板的顶表面的至少一部分。光学部件包括容纳光耦合材料的容器,该光耦合材料部分地基于期望的角度来选择。光学部件还包括反射镜,该反射镜布置为反射光的至少一部分从而以期望的角度照射光致抗蚀剂材料。

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