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一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示面板

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910555671.7
  • IPC分类号:H01L27/32
  • 申请日期:
    2019-06-25
  • 申请人:
    京东方科技集团股份有限公司
著录项信息
专利名称一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示面板
申请号CN201910555671.7申请日期2019-06-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-09-17公开/公告号CN110246884A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/32IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;3;2查看分类表>
申请人京东方科技集团股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥路10号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人京东方科技集团股份有限公司当前权利人京东方科技集团股份有限公司
发明人李鑫;樊星;温向敏
代理机构北京同达信恒知识产权代理有限公司代理人李欣
摘要
本发明涉及显示设备技术领域,公开了一种阵列基板的制备方法及阵列基板、显示面板,该阵列基板的制备方法,包括:在衬底上依次制备薄膜晶体管器件层、像素平坦层、具有起伏结构的胶体层和与胶体层具有相同起伏结构的有机电致发光器件层,其中,有机电致发光器件层包括依次形成于胶体层背离衬底一侧的阳极、有机发光层和阴极。该阵列基板的制备方法中制备了具有起伏结构的胶体层和与胶体层具有同样起伏结构的有机电致发光器件层,制备方法简便且能够更好的提高出光效率。

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