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一种锗还原炉

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201620014853.5
  • IPC分类号:C22B41/00
  • 申请日期:
    2016-01-08
  • 申请人:
    昆明汇泉高纯半导材料有限公司
著录项信息
专利名称一种锗还原炉
申请号CN201620014853.5申请日期2016-01-08
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C22B41/00IPC分类号C;2;2;B;4;1;/;0;0查看分类表>
申请人昆明汇泉高纯半导材料有限公司申请人地址
云南省昆明市安宁市温泉镇白塔村 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昆明汇泉高纯半导材料有限公司当前权利人昆明汇泉高纯半导材料有限公司
发明人唐安泰;李建平
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型提供了一种锗还原炉,其特征在于:炉体为中空结构,炉体左端设置有炉头端,炉体右端设置有炉尾端,炉头端左侧设置有推料机构,炉头端左部设置有炉门机构,炉头端中部设置有排气口,炉尾端上部设置有进气口,炉尾端下部设置有排渣口,炉体内部设置有炉心,炉心上端设置有若干吊板,炉心上部设置有送气管,送气管上设置有若干喷口,炉心下部设置有支撑板,支撑板上设置有若干通孔,该设备结构合理规范,实用方便,通过吊板、送气管、喷口、支撑板、通孔的组合设计能有效的增强炉体内部的氢气含量,有效的保证还原反应的有序进行,降低能耗。

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