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互补金属氧化物半导体集成电路

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN98800117.9
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1998-02-26
  • 申请人:
    株式会社爱德万测试
著录项信息
专利名称互补金属氧化物半导体集成电路
申请号CN98800117.9申请日期1998-02-26
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日1999-05-05公开/公告号CN1216177
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人株式会社爱德万测试申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社爱德万测试当前权利人株式会社爱德万测试
发明人冈安俊幸
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人马莹
摘要
一种CMOS结构的超大规模集成电路,可不受配线电容、门输入电容的影响而高速工作。把电流输出型门用作发送侧门11,且只在信号的跃迁期间使电容器54充放电,其电流经电流密勒电路55、56放大后流过导通电路15。接收侧门31是低输入阻抗电流输入型门。该门31的结构为:将CMOS反相器35的输入输出端短路连接,其两个电源连接端分别通过p沟道MOSFET电流密勒电路37、39和n沟道MOSFET电流密勒电路38、41而连接在正和负的电源端子16及17上,两个电流密勒电路的输出侧连接在导电通路15上。

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