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具有掩埋位线的半导体器件及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010255052.5
  • IPC分类号:H01L27/105;H01L23/528;H01L21/8239;H01L21/768
  • 申请日期:
    2010-08-17
  • 申请人:
    海力士半导体有限公司
著录项信息
专利名称具有掩埋位线的半导体器件及其制造方法
申请号CN201010255052.5申请日期2010-08-17
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-11-23公开/公告号CN102254915A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/105IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;0;5;;;H;0;1;L;2;3;/;5;2;8;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;3;9;;;H;0;1;L;2;1;/;7;6;8查看分类表>
申请人海力士半导体有限公司申请人地址
韩国京畿道 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人海力士半导体有限公司当前权利人海力士半导体有限公司
发明人董且德;金奎显
代理机构北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙)代理人郭放;黄启行
摘要
本发明公开了一种半导体器件,包括:有源区,所述有源区具有侧壁,所述侧壁包括侧壁台阶;在所述侧壁台阶的表面之下形成的结;和被配置为与所述结相接触的掩埋位线。

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