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光记录载体记录方法和设备

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN02816493.8
  • IPC分类号:G11B7/0045;G11B7/125;G11B7/013
  • 申请日期:
    2002-07-11
  • 申请人:
    皇家飞利浦电子股份有限公司
著录项信息
专利名称光记录载体记录方法和设备
申请号CN02816493.8申请日期2002-07-11
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2004-11-17公开/公告号CN1547736
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G11B7/0045IPC分类号G;1;1;B;7;/;0;0;4;5;;;G;1;1;B;7;/;1;2;5;;;G;1;1;B;7;/;0;1;3查看分类表>
申请人皇家飞利浦电子股份有限公司申请人地址
荷兰艾恩德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人皇家飞利浦电子股份有限公司当前权利人皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人G·R·兰格雷斯;B·蒂伊科
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人刘杰;陈景峻
摘要
本发明涉及光记录载体记录方法,该方法用于通过将辐射束(12)引导至光记录载体(20)的记录表面(21)上来形成凹区和凸区。对于每个将被记录的凹区,辐射束被设定到至少一个能够在写功率照射周期(31)内形成凹区的写功率电平(PW),并且对于凹区之间的每个凸区,辐射束被设定到至少一个在底功率照射周期(51)内不能形成凹区的底功率电平(P0)。为了在不增加整体抖动的条件下将附加LML通道的位嵌入主通道,根据本发明提出在用于形成LML凸区的LML凸区照射周期(55)内将底功率电平(P0)临时增加到LML凸区功率电平(P11),该LML凸区功率电平(P11)接近于写功率电平(PW),以及在用于形成LML凹区的LML凹区照射周期(35)内将写功率电平(PW)临时降低到LML凹区功率电平(Pp1),该LML凹区功率电平(Pp1)接近于底功率电平(P0)。

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