一种基质辅助激光解析质谱大批量上样装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201811356938.1
IPC分类号：H01J49/04
申请日期：
2018-11-15
申请人：
复旦大学

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专利名称	一种基质辅助激光解析质谱大批量上样装置
申请号	CN201811356938.1	申请日期	2018-11-15
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2019-04-05	公开/公告号	CN109585254A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J49/04 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J49/00 粒子分光仪或粒子分离管〔3〕 H01J49/02 零部件〔3〕 H01J49/04 导入或提取待分析试样的装置，如真空锁；电子光学或离子光学部件的外部调节装置〔3〕	IPC分类号	H;0;1;J;4;9;/;0;4查看分类表>
申请人	复旦大学	申请人地址	上海市杨浦区邯郸路220号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	复旦大学	当前权利人	复旦大学
发明人	刘颖超;张权青;李顺祥;杨芃原;黄元宇
代理机构	上海正旦专利代理有限公司	代理人	张磊

摘要

本发明涉及一种基质辅助激光解析质谱大批量上样装置。该上样装置包括可伸缩支架、上样孔道板、样品刮板和样品压板组成。可伸缩支架可调节大小以适应各种不同规格的靶板，调节高度以控制上样孔道板及靶板的距离。上样孔道板上孔道阵列与靶点阵列一致。用样品刮板将倾倒在上样孔道板上的待测样品简单快速的平均分配到各个孔道中，再使用样品压板使孔道中的样品在外加压力的作用下，同时上样至靶点上。该装置可实现基质辅助激光解析质谱的大批量同时上样，缩短点靶及等待结晶的时间，提高质谱检测效率。

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