离子注入机的作业平台

实用新型有效专利

申请号：
CN202020455344.2
IPC分类号：H01J37/317
申请日期：
2020-04-01
申请人：
上海临港凯世通半导体有限公司;上海凯世通半导体股份有限公司

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著录项信息

专利名称	离子注入机的作业平台
申请号	CN202020455344.2	申请日期	2020-04-01
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/317 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/30 物体局部处理用的电子束管或离子束管 H01J37/317 用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入（H01J 37/36优先）〔3〕	IPC分类号	H01J37/317查看分类表>
申请人	上海临港凯世通半导体有限公司;上海凯世通半导体股份有限公司	申请人地址	上海市浦东新区南汇新城镇竹柏路750号2*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海临港凯世通半导体有限公司,上海凯世通半导体股份有限公司	当前权利人	上海临港凯世通半导体有限公司,上海凯世通半导体股份有限公司
发明人	夏世伟;陈炯;王占柱;杨立军;王辉;杰夫·贝克;洪俊华;李轩;陈克禄;刘志峰
代理机构	上海弼兴律师事务所	代理人	薛琦;杨东明

摘要

本发明公开了一种离子注入机的作业平台，包括EFEM、两个Loadlock、VTM和PTM，EFEM、Loadlock和VTM沿着第一方向依次排布，两个Loadlock平行地设置于EFEM和VTM之间，PTM在第二方向上与VTM相连，第一方向与第二方向不平行，VTM用于在真空状态下在每个Loadlock和PTM之间传输硅片；PTM用于在真空中采用离子束对硅片进行加工，所述PTM包括扫描机器人和离子束收集装置，所述离子束收集装置位于PTM的远离所述扫描机器人的一端并且在第二方向上与VTM相间隔。由此使得硅片免受沉积于离子束收集装置中污染物的影响。