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维修方法、曝光方法及装置、以及元件制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200780006184.0
  • IPC分类号:H01L21/027;G03F7/20
  • 申请日期:
    2007-06-28
  • 申请人:
    株式会社尼康
著录项信息
专利名称维修方法、曝光方法及装置、以及元件制造方法
申请号CN200780006184.0申请日期2007-06-28
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2009-03-18公开/公告号CN101390194
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/027IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人株式会社尼康申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼康当前权利人株式会社尼康
发明人依田安史
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人任默闻
摘要
一种能有效率地进行使用液浸法进行曝光的曝光装置的维修的维修方法。曝光装置透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(1)以曝光用光使该基板曝光,其包含:与形成液浸区域(AR2)的嘴构件(30)对向配置测量台(MTB)的移动步骤,使用嘴构件(30)对测量台(MTB)上供应液体(1)、将此供应的液体蓄积至圆筒部(91)内的蓄积步骤,以及朝向含以液浸法进行曝光时与有可能与液体(1)接触的液体接触部的至少部分区域、将以该蓄积步骤蓄积的液体(1)从喷射嘴部(90)喷出的洗净步骤。

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