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半导体清洗液管理装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110033084.5
  • IPC分类号:H01L21/00;B08B3/00
  • 申请日期:
    2011-01-30
  • 申请人:
    北京七星华创电子股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体清洗液管理装置及方法
申请号CN201110033084.5申请日期2011-01-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-10-05公开/公告号CN102208327A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/00IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;0;;;B;0;8;B;3;/;0;0查看分类表>
申请人北京七星华创电子股份有限公司申请人地址
北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京七星华创电子股份有限公司当前权利人北京七星华创电子股份有限公司
发明人郭训容;吴仪;裴立坤;昝威
代理机构北京路浩知识产权代理有限公司代理人王莹
摘要
本发明公开了一种半导体清洗液管理装置,包括:储液单元,用于储存清洗液;浓度液位检测单元,用于检测所述储液单元中清洗液的浓度及液位,并将检测到的浓度数据及液位数据传输给所述控制单元;控制单元,用于根据所述浓度数据及液位数据生成相应的控制信号,并将所述控制信号发送给所述执行单元;执行单元,用于根据所述控制信号执行所述储液单元的清洗液的排放、补充所述储液单元的化学药剂、补充所述储液单元的水、更换所述储液单元的清洗液、回收反应腔体的清洗液、以及供液给反应腔体的动作。本发明通过与反应腔体控制装置的结合,实现了对清洗液进行自动管理,并实现了在没有技术人员对清洗液进行管理的情况下,持续的进行清洗工艺。

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