组合磁场与内衬锥形管和多孔挡板复合过滤的电弧离子镀

发明专利有效专利

申请号：
CN201711491538.7
IPC分类号：C23C14/32;C23C14/56;C23C14/35
申请日期：
2017-12-30
申请人：
魏永强

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专利名称	组合磁场与内衬锥形管和多孔挡板复合过滤的电弧离子镀
申请号	CN201711491538.7	申请日期	2017-12-30
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2019-07-09	公开/公告号	CN109989020A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/32 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕 C23C14/32 爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法（C23C 14/34至C23C 14/48优先）〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;2;;;C;2;3;C;1;4;/;5;6;;;C;2;3;C;1;4;/;3;5查看分类表>
申请人	魏永强	申请人地址	河南省郑州市二七区大学中路2号郑航家属院26号楼4单元2楼变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	魏永强	当前权利人	魏永强
发明人	魏永强;王好平;侯军兴;张华阳;刘源;蒋志强
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

组合磁场与内衬锥形管和多孔挡板复合过滤的电弧离子镀，属于材料表面处理技术领域，本发明为解决多级磁场过滤装置中大颗粒对薄膜的污染和等离子体传输过程中的损失问题。本发明的装置包括：偏压电源、电弧离子镀靶源及电源、多级磁场装置及电源、内衬偏压锥形管和多孔挡板组合装置及偏压电源、活动线圈装置及电源、偏压电源波形示波器和真空室等；薄膜沉积：连接装置，启动系统，待真空室内真空度小于10‑4Pa时，通入工作气体，开启镀膜电源，偏压电源调节电弧等离子体的能量，内衬偏压锥形管和多孔挡板组合装置和多级磁场装置消除电弧等离子体中的大颗粒缺陷和提高其在过滤装置中的传输效率，减少在真空室中的损耗，设置工艺参数制备薄膜。

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