一种铜的环保化学机械抛光方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201710421215.4
IPC分类号：C23F3/06
申请日期：
2017-06-09
申请人：
大连理工大学

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著录项信息

专利名称	一种铜的环保化学机械抛光方法
申请号	CN201710421215.4	申请日期	2017-06-09
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2017-09-15	公开/公告号	CN107164764A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23F3/06 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23F 非机械方法去除表面上的金属材料（电浸蚀法加工金属入B23H；火焰法清除表层金属材料入B23K 7/00；用激光束加工金属入B23K 26/00）；金属材料的缓蚀；一般防积垢（电解或电泳法处理金属表面或金属覆层入C25D，C25F）；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理〔4〕 C23F3/00 金属的化学法光亮处理〔2〕 C23F3/04 重金属 C23F3/06 用酸性溶液的〔4〕	IPC分类号	C;2;3;F;3;/;0;6查看分类表>
申请人	大连理工大学	申请人地址	辽宁省大连市甘井子区凌工路2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	大连理工大学	当前权利人	大连理工大学
发明人	张振宇;于志坚;黄思玲;祝占伟;郭东明
代理机构	大连理工大学专利中心	代理人	温福雪

摘要

一种铜的环保化学机械抛光方法，属于超精密加工技术领域。陶瓷研磨颗粒为二氧化硅、三氧化二铝、氧化镁、二氧化铈，颗粒的平均粒径为20‑120nm，重量百分比1‑6％。氨基有机物为脯氨酸、氨基葡萄糖、壳寡糖、甲壳素、纤维素，重量百分比为0.4‑2.5％。抛光液的pH值为3‑7。对铜片进行研磨，研磨液为去离子水，然后对铜片进行化学机械抛光，抛光时工件和抛光盘的转速均为40‑80rpm，压力为20‑40kPa，抛光液流速为60‑80mL/min，抛光时间为5‑10min。抛光铜片的测量范围为50×70μm2，表面粗糙度Ra达到0.4‑0.7nm。本发明实现了铜的超光滑超低损伤环保化学机械抛光。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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