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一种等离子表面清洁装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110247600.8
  • IPC分类号:H01J37/32
  • 申请日期:
    2021-03-06
  • 申请人:
    东莞市峰谷纳米科技有限公司
著录项信息
专利名称一种等离子表面清洁装置
申请号CN202110247600.8申请日期2021-03-06
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-05-18公开/公告号CN112820619A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J37/32IPC分类号H;0;1;J;3;7;/;3;2查看分类表>
申请人东莞市峰谷纳米科技有限公司申请人地址
广东省东莞市大岭山镇对面岭街31号7号楼801室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东莞市峰谷纳米科技有限公司当前权利人东莞市峰谷纳米科技有限公司
发明人高佳
代理机构广州市一新专利商标事务所有限公司代理人刘兴耿
摘要
本发明是一种等离子表面清洁装置,包括主机体,所述主机体一侧设有真空泵组,所述主机体两端还设有惰性气体箱及活性气体箱,所述惰性气体箱与所述活性气体箱一侧分别设有高压电源及电控箱,所述惰性气体箱与所述活性气体箱通过管道与所述主机体相通,所述主机体内部中空形成腔体,本发明中采用石墨作为电极对活性气体与惰性气体进行电离,石墨电极与活性气体反应后生成气体,不会对被清洗半导体表面造成残留;被清洗零件以转动的方式进入不同氛围进行清洗,大幅度提升了清洗效果,而且结构简单,使用方便;被清洗零件可以转动,能够使被清洗零件的不同位置直面等离子体,确保零件表面被清洗干净。

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