用于在成像中使用的系统和方法

发明专利有效专利

申请号：
CN202080008334.7
IPC分类号：G01T1/29
申请日期：
2020-01-07
申请人：
兰斯芙丽有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于在成像中使用的系统和方法
申请号	CN202080008334.7	申请日期	2020-01-07
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-09-07	公开/公告号	CN113366343A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01T1/29 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01T 核辐射或X射线辐射的测量（材料的辐射分析，质谱测定法入G01N 23/00用以测定辐射或粒子的存在、强度、密度或能量的管入H01J 47/00） G01T1/00 X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量（G01T 3/00，G01T 5/00优先）〔2〕 G01T1/29 对辐射束流的测量，例如，测量射束位置或截面；辐射的空间分布的测量〔2〕	IPC分类号	G;0;1;T;1;/;2;9查看分类表>
申请人	兰斯芙丽有限公司	申请人地址	以色列赖阿南纳变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	兰斯芙丽有限公司	当前权利人	兰斯芙丽有限公司
发明人	泽埃夫·扎列夫斯基;多伦·阿夫拉罕;约西·达南
代理机构	北京安信方达知识产权代理有限公司	代理人	张少波;杨明钊

摘要

描述了一种成像系统，该系统包括：辐射源单元，其包括用于朝着传播的大致方向发射选定频率范围的电磁辐射的一个或更多个发射器；检测单元，其包括沿着从辐射源单元发射的电磁辐射的路径定位的一个或更多个检测器阵列；孔掩模单元，其定位于从辐射源单元朝着检测单元的辐射传播的光学路径中，提供相对于选定位置的待成像的样本的最小化因子M。孔掩模单元包括一组孔掩模，每个孔掩模携带针孔阵列，针孔阵列包括具有选定布置的预定数量的针孔。该组孔掩模的针孔相对于检测器单元的对准移位了最小化因子的一部分，以产生移位了几何分辨率的一部分的移位后的图像副本。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供