薄膜晶体管的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200410055874.3
IPC分类号：G03F7/00H01L29/786
申请日期：
2004-08-05
申请人：
友达光电股份有限公司

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法律信息

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著录项信息

专利名称	薄膜晶体管的制造方法
申请号	CN200410055874.3	申请日期	2004-08-05
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2004-12-29	公开/公告号	CN1558292
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G03F7/00;H01L29/786查看分类表>
申请人	友达光电股份有限公司	申请人地址	台湾省*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	友达光电股份有限公司	当前权利人	友达光电股份有限公司
发明人	陈坤宏
代理机构	北京市柳沈律师事务所	代理人	陶凤波;侯宇

摘要

本发明提供一种薄膜晶体管的制造方法，包括形成一光致抗蚀剂层于一基底上。之后，以一单一曝光程序选择性地移除一部分的光致抗蚀剂层，以形成一光致抗蚀剂图案，而该光致抗蚀剂图案包括一具有一第一宽度的第一部分结构与一具有一第二宽度的第二部分结构，且该第二部分结构位于该第一部分结构下方。本发明提供的光致抗蚀剂图案可减少制作薄膜晶体管时所需使用的光掩模数目。

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发明授权

薄膜晶体管的制造方法

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