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一种量子点修饰ZnO纳米棒阵列电极及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310337248.2
  • IPC分类号:H01G9/20;H01G9/042;H01B5/00
  • 申请日期:
    2013-08-05
  • 申请人:
    哈尔滨工业大学
著录项信息
专利名称一种量子点修饰ZnO纳米棒阵列电极及其制备方法
申请号CN201310337248.2申请日期2013-08-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-11-20公开/公告号CN103400699A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01G9/20IPC分类号H;0;1;G;9;/;2;0;;;H;0;1;G;9;/;0;4;2;;;H;0;1;B;5;/;0;0查看分类表>
申请人哈尔滨工业大学申请人地址
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人哈尔滨工业大学当前权利人哈尔滨工业大学
发明人刘丹青;刘绍琴;杨彬
代理机构哈尔滨市松花江专利商标事务所代理人牟永林
摘要
一种量子点修饰ZnO纳米棒阵列电极及其制备方法,它涉及一种阵列电极及其制备方法。本发明是要解决ZnO纳米材料在可见光下光催化效率低,对太阳光的利用率低的技术问题。本发明的制备方法按以下步骤进行:一、以导电玻璃为基底,采用水热法制得高度有序的ZnO纳米棒阵列;二、在上述ZnO纳米棒阵列表面交替沉积聚电解质和量子点颗粒,获得均匀包覆的量子点修饰ZnO纳米棒阵列电极。本发明制备光电极的方法对ZnO纳米棒阵列的长度和包覆的量子点的厚度可控;本发明制得的电极在可见光照射下,表现出良好的光电催化活性和可见光响应特性。本发明用于光电催化降解环境污染物、光电催化合成和光解水产氢领域。

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