首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

在鳍式场效晶体管中形成外延结构

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810972337.7
  • IPC分类号:H01L29/78H01L29/08H01L21/336
  • 申请日期:
    2018-08-24
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称在鳍式场效晶体管中形成外延结构
申请号CN201810972337.7申请日期2018-08-24
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2019-09-06公开/公告号CN110212029A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/78
?
IPC结构图谱:
IPC分类号H01L29/78;H01L29/08;H01L21/336查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人詹佳玲;陈子涵;陈亮吟;郭建亿
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人蒋林清
摘要
本发明实施例公开了在鳍式场效晶体管中形成外延结构。在一实施例中,一种在FinFET装置中形成源极/漏极构件的方法包含:提供形成于衬底上方的鳍片和形成于鳍片上方的栅极结构;在所述鳍片中相邻于所述栅极结构形成凹槽;在所述凹槽中形成第一外延层;在所述第一外延层上方形成第二外延层;和在所述第二外延层上方形成第三外延层。所述第二外延层可掺杂有第一元素,而所述第一外延层和所述第三外延层的一者或两者包含不同于所述第一元素的第二元素。所述第一外延层和所述第三外延层的一者或两者可通过等离子体沉积程序形成。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供