一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710662957.6
IPC分类号：B24B1/00;B24B31/10
申请日期：
2017-08-04
申请人：
北京交通大学

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专利名称	一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法
申请号	CN201710662957.6	申请日期	2017-08-04
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-12-08	公开/公告号	CN107443176A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B1/00 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B1/00 磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备（以使用专用机床或装置为特征的工艺，见与这些机床或装置相关的位置）〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;1;/;0;0;;;B;2;4;B;3;1;/;1;0查看分类表>
申请人	北京交通大学	申请人地址	北京市海淀区西直门外上园村3号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	北京交通大学	当前权利人	北京交通大学
发明人	李建勇;李保震;朱朋哲;曹建国;聂蒙
代理机构	北京市商泰律师事务所	代理人	黄晓军

摘要

本发明提供了一种基于磁流变泡沫的超光滑平面抛光方法，磁流变泡沫作为抛光介质，放置在抛光盘上，在外加磁场作用下形成柔性磁刷，抛光头和抛光盘分别带动工件和磁流变泡沫相对运动实现工件的抛光，抛光时磁流变抛光液与泡沫基体在磁场下相互耦合、共同作用提供抛光所需条件，在磁场作用下磁流变抛光液中铁磁性颗粒会形成磁链，磁链嵌入在泡沫基体的微孔中，增大柔性磁刷的有效剪应力，增大材料去除率，由于泡沫基体的存在，既增加了优化抛光性能的变量，又保留传统磁流变抛光的“容没”效应。本发明节省了磁流变抛光液，降低了成本，同时提高了抛光效率，解决了传统磁流变抛光中磁流变抛光液用量大及材料去除率低的问题。

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