像素结构及其形成方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201610021196.1
IPC分类号：G02F1/1362;H01L27/12
申请日期：
2016-01-13
申请人：
中华映管股份有限公司

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著录项信息

专利名称	像素结构及其形成方法
申请号	CN201610021196.1	申请日期	2016-01-13
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2017-07-21	公开/公告号	CN106970494A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1362 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕 G02F1/1362 有源矩阵寻址单元〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;2;;;H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人	中华映管股份有限公司	申请人地址	中国台湾桃园市龙潭区325华映路1号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中华映管股份有限公司	当前权利人	中华映管股份有限公司
发明人	黄俊智
代理机构	北京中誉威圣知识产权代理有限公司	代理人	王正茂;丛芳

摘要

本发明公开了一种像素结构及其形成方法，其包含基板、闸极、闸极绝缘层、源极、漏极、多个金属光学结构、像素电极以及共同电极。闸极配置于基板上，闸极绝缘层位于闸极上，源极及漏极配置于闸极绝缘层上，多个金属光学结构埋设于闸极绝缘层中，像素电极电性连接该漏极，且配置于多个金属光学结构上，共同电极配置于多个金属光学结构下。借此，本发明的像素结构，金属光学结构具有散射到达像素结构的光线的功能，因此，当此像素结构设置于液晶显示器中时，金属光学结构能够有效增加背光源利用率，进而提升液晶显示器的辉度。

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