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一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110321468.0
  • IPC分类号:G03F7/20;G03F7/30;G03F9/00
  • 申请日期:
    2021-03-25
  • 申请人:
    上海大学
著录项信息
专利名称一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法
申请号CN202110321468.0申请日期2021-03-25
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-02公开/公告号CN113064329A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;7;/;3;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人上海大学申请人地址
上海市宝山区上大路99号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海大学当前权利人上海大学
发明人魏鹤鸣;吴彰理;张保;韩龙;庞拂飞;王廷云
代理机构杭州求是专利事务所有限公司代理人郑海峰
摘要
本发明公开了一种基于光纤端超透镜的笔光刻系统和制备方法,属于光学微纳米结构制备技术领域。本发明在单模光纤端面借助双光子激光直写技术制备超透镜,将制备的超透镜与其他光学器件结合搭建笔光刻系统。由于超透镜能够解决现有透镜技术中存在的灵活性差、尺寸受限、效率低等问题,并且能够实现对于光束相位、幅度、偏振完全控制,克服了传统笔光刻系统体积大、成本昂贵、效率低、难以集成等问题;本系统通过结合光纤端超透镜,能够在任意基底材料和制备环境下高精度地制备微纳器件,节约制备成本和时间。

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