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基于颜色-边缘融合特征生长的抗高光干扰工程测量标志提取方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110522500.1
  • IPC分类号:G06K9/32;G06K9/34;G06K9/46;G06N3/04
  • 申请日期:
    2021-05-13
  • 申请人:
    武汉大学
著录项信息
专利名称基于颜色-边缘融合特征生长的抗高光干扰工程测量标志提取方法
申请号CN202110522500.1申请日期2021-05-13
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-09-03公开/公告号CN113343976A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G06K9/32IPC分类号G;0;6;K;9;/;3;2;;;G;0;6;K;9;/;3;4;;;G;0;6;K;9;/;4;6;;;G;0;6;N;3;/;0;4查看分类表>
申请人武汉大学申请人地址
湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉大学当前权利人武汉大学
发明人张宏阳;金银龙;高乔裕;刘全;游川;李飞羽
代理机构武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人王琪
摘要
本发明公开了基于颜色‑边缘融合特征生长的抗高光干扰工程测量标志提取方法,包括如下步骤:在目标指定部位布设选定特征的测量标志;训练可识别指定目标物的目标检测软件模型;针对影像进行目标检测,并提取影像中的Region of Interest(ROI)区域;结合数字图像处理方法,对于提取的ROI区域基于颜色‑边缘特征进行目标初提取,完成图像预处理;按照Canny边缘检测算法对预处理后得到的图像进行边缘检测,按照指定规则选边缘轮廓内部的部分像素点作为候选种子点;以候选种子点为起始点利用生长规则进行区域生长,将符合生长规则的像素点并入生长区域,直至再无符合生长规则的像素点并入生长区域为止;最后基于生长区域进一步提取其几何特征信息及目标特征点信息。

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