双直流等离子体化学气相沉积装置

发明专利无效专利

申请号：
CN90105087.3
IPC分类号：--
申请日期：
1990-04-07
申请人：
李孟春;赵乃石

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法律信息

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著录项信息

专利名称	双直流等离子体化学气相沉积装置
申请号	CN90105087.3	申请日期	1990-04-07
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	1991-10-23	公开/公告号	CN1055565
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	李孟春;赵乃石	申请人地址	辽宁省沈阳市大东区莲花街北里一号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	李孟春,赵乃石	当前权利人	李孟春,赵乃石
发明人	李孟春;赵乃石;赵小军;王京国
代理机构	沈阳市专利事务所	代理人	于菲

摘要

本发明为一种双直流等离子体化学气相沉积装置，在现有直流等离子体化学气相沉积的基础上，增设一套对工件加热的电极，使镀膜时，工件的温度参数摆脱了其它参数的限制，实现了各参数的独立控制，从而使不同形状、不同体积的工件均能得到均匀的加热温度，避免了膜层脱落，污染和出现针孔等现象，使膜层的性能得到改善，同时使工作电压能够始终保持在辉光放电阶段，不会由于产生弧光而使膜层形成熔斑，镀膜参数的调整和确定也得到简化。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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