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遮光阵列透镜及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201410022388.5
  • IPC分类号:G02B3/00;G02B1/10
  • 申请日期:
    2014-01-17
  • 申请人:
    峻立科技股份有限公司
著录项信息
专利名称遮光阵列透镜及其制造方法
申请号CN201410022388.5申请日期2014-01-17
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2014-04-23公开/公告号CN103744133A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B3/00IPC分类号G;0;2;B;3;/;0;0;;;G;0;2;B;1;/;1;0查看分类表>
申请人峻立科技股份有限公司申请人地址
中国台湾台中市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人峻立科技股份有限公司当前权利人峻立科技股份有限公司
发明人沈伟;李远林
代理机构北京泰吉知识产权代理有限公司代理人张雅军
摘要
一种遮光阵列透镜包含一个本体、多个光学有效区及一个遮光区,该本体包括一个顶面及一个底面,所述光学有效区设置于本体中且自顶面延伸至底面,光线可通过光学有效区,该遮光区自本体顶面向下凹入设置于本体中,该遮光区包括多个围绕界定光学有效区的内周面、一个邻近本体顶面周缘设置的外周面、一个界定于内周面与外周面间的容墨槽,及一个填于容墨槽中的遮光墨层,遮光墨层的厚度小于容墨槽的深度,由于填墨区域被限制而不会遮蔽光学有效区,且在容墨槽中的填墨位置可允许较大的位置偏移,降低对定位精密度的需求,确实能提高良率与降低成本。

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