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用于对结构的电磁散射性质进行计算的方法和设备

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201980032517.X
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2019-04-16
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称用于对结构的电磁散射性质进行计算的方法和设备
申请号CN201980032517.X申请日期2019-04-16
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2020-12-22公开/公告号CN112119354A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人M·G·M·M·范卡拉埃吉;M·皮萨连科;理查德·金塔尼利亚
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人暂无
摘要
对被表示为名义结构和结构扰动的结构的电磁散射性质进行计算的方法,所述方法包括步骤(1008),以数值方式对包括名义线性系统的体积积分方程进行求解,以确定相对于所述结构扰动独立的名义向量场;步骤(1010),通过对体积积分方程或伴随线性系统进行求解,来使用扰动线性系统以确定由所述结构扰动所引起的向量场扰动的近似值。名义线性系统矩阵卷积算符的矩阵向量乘法可以被限于子矩阵;以及步骤(1012)使用所确定的名义向量场和所述向量场扰动的所确定的近似值来计算所述结构的电磁散射性质。

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