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半导体装置制造用薄膜卷

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200980147958.0
  • IPC分类号:C09J7/02;H01L21/301;H01L21/52
  • 申请日期:
    2009-11-24
  • 申请人:
    日东电工株式会社
著录项信息
专利名称半导体装置制造用薄膜卷
申请号CN200980147958.0申请日期2009-11-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-10-26公开/公告号CN102227482A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09J7/02IPC分类号C;0;9;J;7;/;0;2;;;H;0;1;L;2;1;/;3;0;1;;;H;0;1;L;2;1;/;5;2查看分类表>
申请人日东电工株式会社申请人地址
日本大阪 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人日东电工株式会社当前权利人日东电工株式会社
发明人三隅贞仁
代理机构中原信达知识产权代理有限责任公司代理人王海川;穆德骏
摘要
本发明的半导体装置制造用薄膜卷,通过将半导体装置制造用薄膜以卷筒状卷绕在圆柱状的卷芯上而得到,其特征在于,所述卷芯的直径在7.5cm~15.5cm的范围内。

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