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一种靶材组件

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201420387187.0
IPC分类号：C23C14/35
申请日期：
2014-07-14
申请人：
南昌欧菲光科技有限公司;深圳欧菲光科技股份有限公司;苏州欧菲光科技有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种靶材组件
申请号	CN201420387187.0	申请日期	2014-07-14
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5查看分类表>
申请人	南昌欧菲光科技有限公司;深圳欧菲光科技股份有限公司;苏州欧菲光科技有限公司	申请人地址	江西省南昌市昌北经济开发区黄家湖西路欧菲光科技园变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	南昌欧菲光科技有限公司,深圳欧菲光科技股份有限公司,苏州欧菲光科技有限公司	当前权利人	南昌欧菲光科技有限公司,深圳欧菲光科技股份有限公司,苏州欧菲光科技有限公司
发明人	李晨光
代理机构	广州三环专利代理有限公司	代理人	郝传鑫;熊永强

摘要

本实用新型提供了一种靶材组件，包括靶材、背板及导磁片，所述靶材与所述背板层叠设置，所述导磁片设置于所述靶材与所述背板之间，且所述导磁片至少部分嵌于所述背板中，所述靶材采用矩形平面靶材。本实用新型的靶材组件通过设置导磁片，使得磁控溅射过程中的磁场分布均匀，靶材的蚀刻速率一致，从而延长矩形平面靶材使用寿命，降低生产成本，提高靶材的使用效率。

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