基于微分同胚的曲面注册方法、系统、设备及可读存储介质

发明专利有效专利

申请号：
CN202110605402.4
IPC分类号：G06F30/10;G06T3/40;G06F111/04
申请日期：
2021-05-31
申请人：
西安交通大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	基于微分同胚的曲面注册方法、系统、设备及可读存储介质
申请号	CN202110605402.4	申请日期	2021-05-31
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2021-08-17	公开/公告号	CN113268789A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G06F30/10	IPC分类号	G;0;6;F;3;0;/;1;0;;;G;0;6;T;3;/;4;0;;;G;0;6;F;1;1;1;/;0;4查看分类表>
申请人	西安交通大学	申请人地址	陕西省西安市咸宁西路28号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	西安交通大学	当前权利人	西安交通大学
发明人	杨义军;曾薇;胡文辉;张航城;毕玉莉;冯圆媛;李亚辉;郭冬媛
代理机构	西安通大专利代理有限责任公司	代理人	朱海临

摘要

本发明公开了基于微分同胚的曲面注册方法、系统、设备及可读存储介质，通过曲线约束调和映射方法将曲面映射到规范域，以实现具有点和曲线约束的曲面配准，然后通过动态拟共形映射在规范域中进行曲面注册，本发明能够很好的解决具有点和线约束的曲面注册配准度差，特别是具有线约束的曲面注册配准度差的问题，本发明通过动态拟共形映射在规范域中进行曲面注册，提供了更多的曲面配准自由，得到的配准结果更精确，利用环向中值定理对其单环曲线邻域进行自适应地调和权值的计算，根据平均值和调和权值将特征曲线在标准域内拉直成线段，将拓扑修改引入拟共形优化可以获得一个具有点和曲线地标的3D曲面的双射注册并且解是唯一的、最优的。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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