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衬底和量测用图案形成装置、量测方法及器件制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201580024794.8
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2015-04-16
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称衬底和量测用图案形成装置、量测方法及器件制造方法
申请号CN201580024794.8申请日期2015-04-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-02-22公开/公告号CN106462078A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰维德霍温 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人R·奎因塔尼拉;W·M·J·M·科内
代理机构北京市金杜律师事务所代理人王茂华;吕世磊
摘要
来自图案形成装置(M)的图案通过光刻设备(LA)被施加至衬底(W)。所施加的图案包括产品特征和量测目标(600,604)。量测目标包括用于使用X射线散射(量测设备104)测量重叠的大目标(600a)和用于通过可见辐射的衍射(量测设备102)测量重叠的小目标(600b,604)。小目标(604)中的一些分布在大目标之间的位置处,而其他小目标(600b)被放置在与大目标相同的位置处。通过将使用相同位置处的小目标(600b)和大目标(600a)测得的值进行比较,使用所有小目标测得的参数值(704)可以被校正用于更好的准确度。大目标可以主要位于划道(SL)内而小目标分布在产品区域(602,D)内。

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