基板处理装置

发明专利有效专利

申请号：
CN200610094248.4
IPC分类号：G03F7/00;H01L21/00
申请日期：
2006-06-27
申请人：
东京毅力科创株式会社

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	基板处理装置
申请号	CN200610094248.4	申请日期	2006-06-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2007-01-10	公开/公告号	CN1892423
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F7/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F7/00 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L 21/00，H05K）〔3，5〕	IPC分类号	G;0;3;F;7;/;0;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	东京毅力科创株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	东京毅力科创株式会社	当前权利人	东京毅力科创株式会社
发明人	小宫洋司;西村德彦;八寻俊一
代理机构	北京尚诚知识产权代理有限公司	代理人	龙淳

摘要

本发明提供一种基板处理装置，基板(G)利用其挠性在基板全长的一部分上形成类似输送线路(120)的隆起部(120a)的突筋的基板隆起部(Ga)，以与输送速度相等的速度使隆起部(Ga)从基板的前端到后端沿与输送方向相反方向一边相对移动，一边通过输送线路的隆起部(120a)。在向上倾斜路径(M2)中，在基板上显影液利用重力向基板后方流，显影液(R)的液膜从基板前端向后端以大致等于输送速度的速度从盛满液体状态变化到薄膜(R’)的状态。基板若移动到向下倾斜路径(M3)，则从上方洗涤喷嘴(138)以带状喷射流供给洗涤液，在附着基板上的洗涤液(S)的线路附近呈薄膜状态的显影液R'被置换成洗涤液，显影完全停止。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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