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一种增强光催化效应的阵列化活性薄膜的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610679084.5
  • IPC分类号:B01J21/18
  • 申请日期:
    2016-08-17
  • 申请人:
    袁沛文
著录项信息
专利名称一种增强光催化效应的阵列化活性薄膜的制备方法
申请号CN201610679084.5申请日期2016-08-17
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2017-02-08公开/公告号CN106378123A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01J21/18IPC分类号B;0;1;J;2;1;/;1;8查看分类表>
申请人袁沛文申请人地址
安徽省安庆市太湖县晋熙镇 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人太湖县市场监督检验所(太湖县功能膜检测研究院)当前权利人太湖县市场监督检验所(太湖县功能膜检测研究院)
发明人袁沛文;杨晓辉;姜卫粉;贾敏;张巧丽
代理机构郑州优盾知识产权代理有限公司代理人董晓慧;张志军
摘要
本发明公开了一种增强光催化效应的阵列化活性薄膜的制备方法,将电阻率小于3.0Ω·cm的P型单晶硅片置入高压釜内,然后向高压釜内填充腐蚀液,腐蚀后制得硅柱阵列;将硅柱阵列放入二茂铁的乙醇溶液中浸润,然后置于卧式管式炉内,通过预浸润催化剂原位生长碳纳米管10min,氮气保护下降至室温,得到碳纳米管/硅柱阵列;采用直流反应磁控溅射法在碳纳米管/硅柱阵列上制备出TiO2薄膜。本发明合理利用了衬底的微/纳阵列的模板作用,所制得的二氧化钛薄膜随基底表面微结构的起伏而起伏,结合牢固,同时基底是由阵列化碳纳米管构成,可以使其表面沉积的二氧化钛更大面积地接触到有机溶液,因此催化效率高。

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