基于臭氧/紫外辐射处理的柔性电容传感器

发明专利有效专利

申请号：
CN201910260137.3
IPC分类号：G01L1/14
申请日期：
2019-04-02
申请人：
天津大学

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法律信息

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著录项信息

专利名称	基于臭氧/紫外辐射处理的柔性电容传感器
申请号	CN201910260137.3	申请日期	2019-04-02
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-10-13	公开/公告号	CN111765999A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01L1/14 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01L 测量力、应力、转矩、功、机械功率、机械效率或流体压力（称量入G01G）〔4〕 G01L1/00 力或应力的一般计量（测量由于冲击产生的力入G01L 5/00）〔4〕 G01L1/14 通过测量电元件的电容量或电感量的变化，例如，测量电振荡器的频率变化	IPC分类号	G;0;1;L;1;/;1;4查看分类表>
申请人	天津大学	申请人地址	天津市南开区卫津路92号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	天津大学	当前权利人	天津大学
发明人	邹强;马卓敏
代理机构	天津市三利专利商标代理有限公司	代理人	韩新城

摘要

本发明公开基于臭氧/紫外辐射处理的柔性电容传感器，包括具有柱状微结构的PDMS介电层以及两个电极，PDMS介电层制作方法为：分两次匀涂PMDS胶在载玻片上，第一次涂完后固化处理，得到第一层PDMS膜，继续匀涂，得到第二层PDMS膜，形成初步介电层；将具有孔洞的PCET模板放在第二层PDMS膜上，对该PCET模板与初步介电层抽真空处理，使PDMS进入PCET模板的孔洞里，经过固化后形成稳定的柱状微结构；洗除PCTE模板，初步形成具有柱状微结构的PDMS介电层；对柱状微结构臭氧/紫外辐射处理，在柱状微结构表面形成硬度较强的硅氧化物，形成具有柱状微结构的PDMS介电层。本发明既可长时间维持柱状微结构，使得介电层具有很大可压缩性，又可保证传感器具有稳定高灵敏度。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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