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半导体结构的形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510653680.1
  • IPC分类号:H01L21/336
  • 申请日期:
    2015-10-10
  • 申请人:
    中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
著录项信息
专利名称半导体结构的形成方法
申请号CN201510653680.1申请日期2015-10-10
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-04-19公开/公告号CN106571298A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/336IPC分类号H01L21/336查看分类表>
申请人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江路*** 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司当前权利人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
发明人李勇
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人徐文欣;吴敏
摘要
一种半导体结构的形成方法,包括:提供衬底,所述衬底表面具有鳍部;在所述鳍部的侧壁表面形成外延层,所述外延层内具有掺杂离子;在所述衬底表面形成隔离层,所述隔离层位于部分外延层表面,且所述隔离层的表面低于所述鳍部的顶部表面;去除高于所述隔离层表面的外延层;在去除高于所述隔离层表面的外延层之后,进行退火工艺,使外延层内的掺杂离子扩散入所述鳍部内,形成防穿通区。所形成的半导体结构内的缺陷减少,以所述半导体结构形成的器件性能提高。

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