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气液两相供给回收装置及浸没式光刻设备

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201921424914.5
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2019-08-28
  • 申请人:
    上海微电子装备(集团)股份有限公司
著录项信息
专利名称气液两相供给回收装置及浸没式光刻设备
申请号CN201921424914.5申请日期2019-08-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人上海微电子装备(集团)股份有限公司申请人地址
上海市浦东新区张东路1525号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司当前权利人上海微电子装备(集团)股份有限公司
发明人朱科峰;赵丹平;刘剑;郭孔斌;张楠
代理机构上海思捷知识产权代理有限公司代理人王宏婧
摘要
本实用新型提供了一种气液两相供给回收装置及浸没式光刻设备,所述气液两相供给回收装置设置于所述浸没式光刻设备的主基板上以对所述浸没式光刻设备进行浸没液的供给和回收,其包括隔热外壳及设置于所述隔热外壳内的分流块主体,所述隔热外壳的侧壁中设置有温控流体通道,所述温控流体通道呈螺旋状环绕所述分流块主体,并且,所述温控流体通道可以流通与所述主基板温度相等的流体,通过所述温控流体通道中的流体与所述分流块主体发生热交换的方式来保证主基板的温度不产生变化,降低了分流块主体的温度对主基板的影响,减小了主基板的热形变。

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