微透镜阵列的形成方法及点胶装置

发明专利有效专利

申请号：
CN202011135589.8
IPC分类号：G02B3/00;B05C13/02;B05C11/06;B05C5/02
申请日期：
2020-10-22
申请人：
晶芯成（北京）科技有限公司

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著录项信息

专利名称	微透镜阵列的形成方法及点胶装置
申请号	CN202011135589.8	申请日期	2020-10-22
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2020-11-20	公开/公告号	CN111965740A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02B3/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器（G02F优先；专用于照明装置或系统的光学元件入F21V 1/00至F21V 13/00；测量仪器见G01类的有关小类，例如，光学测距仪入G01C；光学元件、系统或仪器的测试入G01M 11/00；眼镜入G02C；摄影、放映或观看用的装置或设备入G03B；声透镜入G10K 11/30；电子和离子“光学”入H01J；X射线“光学”入H01J，H05G 1/00；结构上与放电管相组合的光学元件入H01J 5/16，H01J 29/89，H01J 37/22；微波“光学”入H01Q；光学元件与电视接收机的组合装置入H04N 5/72；彩色电视系统中的光学系统或装置入H04N 9/00；专门适用于透明或反射区的加热装置入H05B 3/84）〔1，7〕 G02B3/00 简单或复合透镜（人造眼入A61F 2/14；眼睛用透镜或接触透镜入G02C；钟表玻璃入G04B 39/00）	IPC分类号	G;0;2;B;3;/;0;0;;;B;0;5;C;1;3;/;0;2;;;B;0;5;C;1;1;/;0;6;;;B;0;5;C;5;/;0;2查看分类表>
申请人	晶芯成（北京）科技有限公司	申请人地址	北京市大兴区北京经济技术开发区科创十三街29号院一区2号楼13层1302-C54 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	晶芯成（北京）科技有限公司	当前权利人	晶芯成（北京）科技有限公司
发明人	王厚有;冯永波;刘西域;周晓峰
代理机构	上海思微知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	曹廷廷

摘要

本发明提供了一种微透镜阵列的形成方法及点胶装置，包括提供晶圆，所述晶圆包括若干个芯片，所述芯片上包括像素区；依次在所述芯片的像素区的中心进行滴光刻胶作业；对所述芯片的像素区进行气体吹扫，以调整所述像素区上光刻胶的形貌，以及进行光刻作业，以在所述芯片的像素区形成特定形貌的微透镜阵列。本发明通过采用步进式光刻胶涂布方法实现点胶，且在点胶过程中通过气体吹扫调整光刻胶的形貌，以使后续形成的微透镜阵列具有特定形貌，实现CRA优化，减小像差。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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