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金属配合物及其制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200980132191.4
  • IPC分类号:C07C59/52;B01J20/22;C07D213/06;C07D213/22;C07D213/68;C07D213/72;C07D213/75;C07F1/08
  • 申请日期:
    2009-08-19
  • 申请人:
    可乐丽股份有限公司
著录项信息
专利名称金属配合物及其制造方法
申请号CN200980132191.4申请日期2009-08-19
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2011-07-20公开/公告号CN102131760A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C07C59/52IPC分类号C;0;7;C;5;9;/;5;2;;;B;0;1;J;2;0;/;2;2;;;C;0;7;D;2;1;3;/;0;6;;;C;0;7;D;2;1;3;/;2;2;;;C;0;7;D;2;1;3;/;6;8;;;C;0;7;D;2;1;3;/;7;2;;;C;0;7;D;2;1;3;/;7;5;;;C;0;7;F;1;/;0;8查看分类表>
申请人可乐丽股份有限公司申请人地址
日本冈山县仓敷市酒津1621番地 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人可乐丽股份有限公司当前权利人可乐丽股份有限公司
发明人犬伏康贵;堀启志;大木弘之
代理机构中国专利代理(香港)有限公司代理人孙秀武;高旭轶
摘要
本发明提供可作为具有优异的气体吸附特性的气体吸附材料、贮藏量大的气体贮藏材料、以及具有优异的气体分离性能且吸附容量大的气体分离材料使用的金属配合物。本发明通过金属配合物及其制造方法解决上述课题,所述金属配合物含有多环式芳族二羟基单羧酸化合物、金属和有机配体,其中,所述多环式芳族二羟基单羧酸化合物的结构式内,羟基位于距彼此最远的位置,且在羟基的邻位具有羧基,并且具有10个以上环状共轭的π电子,是3,7-二羟基-2-萘甲酸、4,4'-二羟基-3-联苯甲酸等;所述金属选自铬、钼、钨、锰、铁、钌、钴、铑、镍、钯、铜、锌和镉的至少一种;所述有机配体可与该金属二齿配位,是4,4'-联吡啶等。

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